姓名：劉洪超
性別：男
學歷：博士
職稱/職務：講師
地址：河南師范大學物理南樓515
電話：
E-mail：[email protected]
所在研究所/科室：光學與光信息工程研究所
研究領(lǐng)域：
微納光學方向，目前主要研究超分辨光刻及其在微納光學、光電子學中的應用。
學習經(jīng)歷：
博士，中國科學院大學光電技術(shù)研究所，2015年9月-2018年7月
碩士，貴州大學，2012年9月-2015年7月
學士，山東理工大學，2008年9月-2012年7月
工作經(jīng)歷：
2018年8月至今，河南師范大學物理學院講師
教學工作：
主講《光電技術(shù)》、《傳感器技術(shù)與原理》
科研活動：
主要論著：
1.H. C. Liu, W. J. Kong, Q. G. Zhu, Y. Zheng, K. S. Shen, J. Zhang and H. Lu, “Plasmonic interference lithography by coupling the bulk plasmon polariton mode and the waveguide mode”, Journal of Physics D, 53(13), (2020).
2. H. C. Liu, W. J. Kong, K. P. Liu, C. W. Zhao, W. J. Du, C. T. Wang, L. Liu, P. Gao, M. B. Pu and X. G. Luo, “Deep subwavelength interference lithography with tunable pattern period based on bulk plasmon polaritons”, Optics Express, 25(17), (2017).
3. H. C. Liu, Y. F. Luo, W. J. Kong, K. P. Liu, W. J. Du, C. W. Zhao, P. Gao, Z. Y. Zhao, C. T. Wang, M. B. Pu and X. G. Luo, “Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons”, Opt. Mater. Express, 8(2), (2018).
獎勵和榮譽：