| 1．設(shè)備名稱：超高真空多功能磁控濺射系統(tǒng) | |||
| 2．型號(hào)：JGP-560 | |||
| 3．規(guī)格：3m*1m*2m | |||
4．設(shè)備簡(jiǎn)介、主要性能指標(biāo)： 設(shè)備簡(jiǎn)介：系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。主要性能指標(biāo)：極限壓力≤2.0x10-5Pa；基片結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)6個(gè)工位；樣品尺寸:Ф30mm，可放置6片；運(yùn)動(dòng)方式：0-360°； 加熱:最高溫度600°C；靶材尺寸Φ60mm,各靶射頻濺射與直流濺射兼容,靶與樣品距離40-80mm可調(diào),永磁靶5套。質(zhì)量流量控制器2路.計(jì)算機(jī)控制樣品轉(zhuǎn)動(dòng)、擋板開關(guān)、靶位確認(rèn)等。 | |||
| 5．現(xiàn)有功能與服務(wù)范圍：用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。 | |||
| 6.校編碼 | 02070107 | 7．分 類 號(hào) | 03060302 |
| 8．國(guó)別 | 中國(guó) | 9．設(shè)備造號(hào) | |
| 10．購(gòu)置日期 | 200712 | 11．金額（元） | 人民幣：492331.11 |
| 美元： | |||
| 12．年使用機(jī)時(shí) | 1500 | 13．可供開放機(jī)時(shí)數(shù) | 1000 |
| 14．使用收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn) | 校內(nèi) | 50元／小時(shí) | |
| 校外 | 100 元／小時(shí) | ||
| 5．設(shè)備管理人：楊海剛聯(lián)系方式：15837303211 | |||
| 16．設(shè)備制造及供應(yīng)商：中國(guó)沈陽(yáng)科學(xué)儀器廠 | |||
| 17．設(shè)備存放地點(diǎn)（樓棟及房號(hào)）：物理南樓114房間 | |||
| 18．主要附件：氮?dú)馄俊C(jī)械泵 | |||