| 1．設備名稱：超高真空多功能磁控濺射系統(tǒng) | |||
| 2．型號：JGP-560 | |||
| 3．規(guī)格：3m*1m*2m | |||
4．設備簡介、主要性能指標： 設備簡介：系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶,、基片水冷加熱公轉臺,、工作氣路、抽氣系統(tǒng),、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。主要性能指標：極限壓力≤2.0x10-5Pa,；基片結構設計6個工位；樣品尺寸:Ф30mm,，可放置6片,；運動方式：0-360°； 加熱:最高溫度600°C,；靶材尺寸Φ60mm,各靶射頻濺射與直流濺射兼容,靶與樣品距離40-80mm可調,永磁靶5套,。質量流量控制器2路.計算機控制樣品轉動、擋板開關,、靶位確認等,。 | |||
| 5．現有功能與服務范圍：用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜,、金屬膜,、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備,?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備,。 | |||
| 6.校編碼 | 02070107 | 7．分 類 號 | 03060302 |
| 8．國別 | 中國 | 9．設備造號 | |
| 10．購置日期 | 200712 | 11．金額（元） | 人民幣：492331.11 |
| 美元： | |||
| 12．年使用機時 | 1500 | 13．可供開放機時數 | 1000 |
| 14．使用收費標準 | 校內 | 50元／小時 | |
| 校外 | 100 元／小時 | ||
| 5．設備管理人：楊海剛聯(lián)系方式：15837303211 | |||
| 16．設備制造及供應商：中國沈陽科學儀器廠 | |||
| 17．設備存放地點（樓棟及房號）：物理南樓114房間 | |||
| 18．主要附件：氮氣瓶,、機械泵 | |||