| 1．設(shè)備名稱：脈沖激光沉積系統(tǒng) | |||
| 2．型號(hào)：NBM-PLD | |||
| 3．規(guī)格：3m*1m*2m | |||
| 4．設(shè)備簡(jiǎn)介,、主要性能指標(biāo)：設(shè)備簡(jiǎn)介：脈沖激光沉積系統(tǒng)是一臺(tái)多功能,、快速、高質(zhì)量的制膜設(shè)備：能夠制備高質(zhì)量半導(dǎo)體光學(xué)薄膜,，速率精確可控到原子數(shù)量級(jí),，可進(jìn)行材料調(diào)控級(jí)生長(zhǎng)高真空，保證薄膜質(zhì)量,。 主要性能指標(biāo)：真空室直徑Ф500mm,；主腔室極限真空的壓強(qiáng)小于9 E-9Torr；進(jìn)樣室可抽真空至壓強(qiáng)小于<5E-7Torr,；在0.1Torr氧氣壓下基片可加熱至1200℃,；可同時(shí)安裝3個(gè)靶材，并可實(shí)現(xiàn)靶材的自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn),；德國(guó)Lambda-Physik準(zhǔn)分子激光器高達(dá)800mJ的高能量激光,。 | |||
| 5．現(xiàn)有功能與服務(wù)范圍：可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜材料的生長(zhǎng)過程，實(shí)現(xiàn)薄膜的精確生長(zhǎng),、可制備鐵電薄膜材料,、磁性薄膜材料、光學(xué)薄膜材料,、多功能復(fù)合薄膜等材料,。 | |||
| 6.校編碼 | 020121358 | 7．分 類 號(hào) | 03060301 |
| 8．國(guó)別 | 美國(guó) | 9．設(shè)備造號(hào) | |
| 10．購置日期 | 201206 | 11．金額（元） | 人民幣：1986000 |
| 美元： | |||
| 12．年使用機(jī)時(shí) | 1000 | 13．可供開放機(jī)時(shí)數(shù) | 1000 |
| 14．使用收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn) | 校內(nèi) | 200元／小時(shí) | |
| 校外 | 300 元／小時(shí) | ||
| 15．設(shè)備管理人：王顯威聯(lián)系方式：15836112697 | |||
| 16．設(shè)備制造及供應(yīng)商：美國(guó)NBM公司 | |||
| 17．設(shè)備存放地點(diǎn)（樓棟及房號(hào)）：物理南樓114房間 | |||
| 18．主要附件：機(jī)械泵、氣瓶1個(gè) | |||